Màscara fotogràfica
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/0/03/Semiconductor_photomask.jpg/220px-Semiconductor_photomask.jpg)
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/5/5e/Mask_illustration.svg/220px-Mask_illustration.svg.png)
Una màscara fotogràfica, fotomàscara (o simplement màscara, depenent del context) és una pel·lícula amb àrees transparents i zones opaques, que deixen que la llum passi o no passi en un procés d'insolació fotogràfica.[1]
Utilització
Les fotomàscares s'utilitzen comunament fotolitografia.[2] En la fabricació de circuits integrats, un conjunt de fotomàscares, definint cadascuna d'elles, una capa patró, s'introdueix en un pas a pas de fotolitografia (o escàner), i se selecciona individualment per a l'exposició.[3] En les tècniques de modelatge dobles, una fotomàscara correspondria a un subconjunt del patró de capa. Al final el patró de la fotomàscara es projecta reduint-la de quatre a cinc vegades sobre la superfície de l'oblia.[4]
Referències
- ↑ màscara fotogràfica a Optimot
- ↑ Benjamin Eynon; Banqiu Wu Photomask Fabrication Technology. McGraw Hill Professional, 21 de juliol de 2005. ISBN 978-0-07-158891-1.
- ↑ Rizvi, Syed. «1.3 The Technology History of Masks». A: Handbook of Photomask Manufacturing Technology. CRC Press, 2005, p. 728. ISBN 9781420028782.
- ↑ Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges // EETimes 2000
Vegeu també
- Insoladora
- Copiadora tèrmica
- Caixa lluminosa
- Nanolitografía
- Estereolitografía
- Ozalid
Enllaços externs
- Photomask Technology for the EUV Era
- Print your Photomask