10 µm
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/a/a5/Icons8_flat_electronics.svg/35px-Icons8_flat_electronics.svg.png)
Cet article est une ébauche concernant l’électronique.
Vous pouvez partager vos connaissances en l’améliorant (comment ?) selon les recommandations des projets correspondants.
10 µm (ou encore 10 000 nm) est la dimension caractéristique d'un procédé de fabrication des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, le principal fabricant de semi-conducteurs dans les années 1971-1972[1].
Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm.
Produits fabriqués avec un procédé à 10 µm
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/b/b9/Intel_D4004.jpg/220px-Intel_D4004.jpg)
- CPU Intel 4004 lancé en 1971, premier microprocesseur fabriqué avec ce procédé.
- CPU Intel 8008 lancé en 1972.
Notes et références
- ↑ Alain Binet, Le Second XXe siècle (1939-2000), Paris, Ellipses, 2003, p. 208
Voir aussi
Bibliographie
- (en) Grant McFarland, Microprocessor Design : A Practical Guide from Design Planning to Manufacturing, McGraw-Hill Publishing Companies, Inc., , 408 p. (ISBN 0071459510, DOI 10.1036/0071459510)
Liens externes
- (en) Interviews de pionniers de l'industrie des semi-conducteurs
v · m | ||
---|---|---|
Portail de l’électricité et de l’électronique
Portail des micro et nanotechnologies